Nanosheet取代FinFET-台積電正式公佈2nm:功耗降低30%

台積電在今日舉辦的2022技術論壇上,首度推出下一代先進制程N2,也就是2nm

技術指標方面,台積電披露,N2相較於N3,在相同功耗下,速度快10~15%;相同速度下,功耗降低25~30%,開啓高效能新紀元。

就縱向對比來看,2nm之於3nm的提升,似乎不如3nm之於5nm,包括但不限於性能、功耗、密度等所有核心參數。

在微觀結構上,N2採用納米片電晶體(Nanosheet),取代FinFET(鰭式場效應電晶體),外界普遍認為,納米片電晶體就是台積電版的GAAFET(環繞柵極電晶體)。

台積電還表示,N2不僅有針對移動處理器的標準製程,還會有針對高性能運算和小晶片(Chiplet)的整合方案。

時程方面,N2將於2025年量產。

另外,根據台積電最新技術路線圖,第一代3nmN3)定於下半年量產,3nm也會比較長壽,後續還有N3EN3PN3X

 

出處:快科技

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